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“供应石久SiO2二氧化蒸发颗粒 高纯二氧化硅颗粒 二氧化蒸发颗粒”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 材质： | 硅 |
| 用途： | 二氧化硅用途广泛，主要用于冷光膜、防反膜 | 型号： | SiO2 |
| 规格： | 1-4mm,颗粒，靶材 | 商标： | 石久 |
| 包装： | 按客户要求 | 产量： | 100000000 |
“供应石久SiO2二氧化蒸发颗粒 高纯二氧化硅颗粒 二氧化蒸发颗粒”详细介绍
详细说明
二氧化硅，高纯二氧化硅颗粒，二氧化硅靶，二氧化硅蒸发材料，镀膜专用二氧化硅 化学符号：SiO2
沸 点：2230℃
纯 度：4N
规 格：1-4mm,颗粒，靶材
分 子 量：60.08 外 观：白色 熔 点：1700℃ 密 度：2.2-2.7g/cm3 在10-4Torr真空下蒸发温度为：1025℃ 透 明 区/nm：200-8000 相对介电常数：3-4 击穿电压/V？cm-1：106 厚 度μm：0.03-0.3 沉积技术：反应溅射 折 射 率(波长/nm)：1.46(500) 1.445(1600) 线膨胀系数/℃-1:5.5×10-7 蒸发方式：电子束 性 能： 可用钽舟加热蒸发，也可用三氧化二铝坩埚加热蒸发，但由电阻加热蒸发会产生分解，由电子束加热蒸发效果很好；不溶于水和酸，但溶于氢氟酸；其微粒能与熔融碱起作用； 应 用： 二氧化硅用途广泛，主要用于冷光膜、防反膜、多层膜、滤光片、绝缘膜、眼镜膜、紫外膜等。